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LGA-4100激光过程气体分析系统

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产品名称: LGA-4100激光过程气体分析系统
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简单介绍

LGA-4100激光过程气体分析系统 LGA-4100激光过程气体分析系统由上海美盛自动化设备有限公司供应 ■ 系统特点 ●激光光谱分析,灵敏度高,可实现痕量(ppm)级测量 ●原位(In-Situ)测量,精度高,响应速度快 ●一体化设计,迄今为止集成度*高,可靠性高 ●模块化设计,可现场更换所有功能模块 ●智能化程度高,操作、维护方便

LGA-4100激光过程气体分析系统的详细介绍

LGA-4100激光过程气体分析系统
LGA-4100激光过程气体分析系统由上海美盛自动化设备有限公司供应
■ 系统特点
●激光光谱分析,灵敏度高,可实现痕量(ppm)级测量
●原位(In-Situ)测量,精度高,响应速度快
●一体化设计,迄今为止集成度*高,可靠性高
●模块化设计,可现场更换所有功能模块
●智能化程度高,操作、维护方便





技术原理
采用国内独有、国际优越的半导体激光吸收光谱技术DLAS,具体来说,半导体激光器发射出的特定波长的激光束穿过被测气体时,被测气体对激光束进行吸收导致激光强度产生衰减,激光强度的衰减与被测气体含量成正比,因此,通过测量激光强度衰减信息就可以分析获得被测气体的浓度。

DLAS独特的气体分析技术解决了困扰过程气体分析的三大问题,即背景气体的交叉干扰、粉尘和视窗污染对测量的干扰以及被测气体环境参数变化的影响,从而避免了采样预处理系统,能够实现现场在线分析测量。




单线光谱不受背景气体交叉干扰的影响
激光频率扫描自动修正粉尘和视窗污染对测量浓度的影响
谱线展宽自动修正消除气体环境参数(温度和压力等)变化的影响

系统介绍
LGA-4100激光过程气体分析系统是聚光科技结合多年的激光气体分析产品开发和应用经验,集成半导体激光吸收光谱、激光器波长锁定、蓝牙无线通讯等多项**技术,开发出的*新一代过程气体分析产品。
 
LGA-4100采用原位(In-Situ)测量方式,特别适合HFHClNH3等容易被采样方式中预处理单元吸附的气体的测量。



系统组成
LGA-4100系统的测量探头由发射单元和接收单元组成,具备了光谱分析、人机交互、正压控制、数据通讯等多项功能,极大的简化了现场安装和维护过程。









发射单元:半导体激光器、人机界面(LCD与键盘)、中央控制和接口电路等
接收单元:光电传感器、传感信号处理电路等
可选部件:蓝牙通讯模块、吹扫气过滤/传感模块、正压防爆控制模块等


 
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