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  • 产品名称：CM505用于半导体工厂的CM505无尘室气体监视器

  • 产品型号：CM505
  • 产品厂商：其它品牌
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简单介绍：
CM505用于半导体工厂的CM505无尘室气体监视器 随着LSI集成度的提高，以及大型FPD生产的推动，**无尘室中氨气和酸性气体等气体污染物，显得日益重要。为满足此要求，监视气态污染物，并定期检查化学过滤器的化学性能十分重要。为达到此目的，通常采用的测试方法是尘埃器测定法。然而，传统的尘埃器测定法不适合长期测量，且会由于操作员引起交叉污
详情介绍：
CM505用于半导体工厂的CM505无尘室气体监视器
随着LSI集成度的提高，以及大型FPD生产的推动，**无尘室中氨气和酸性气体等气体污染物，显得日益重要。为满足此要求，监视气态污染物，并定期检查化学过滤器的化学性能十分重要。为达到此目的，通常采用的测试方法是尘埃器测定法。然而，传统的尘埃器测定法不适合长期测量，且会由于操作员引起交叉污

CM505无尘室气体监视器通过尘埃器测定法实现无污染在线气体监视，测量时间为1个小时。还可选用多光束型(16点)。该系统可根据要求监视氨气(或阳离子)和酸性气体(阴离子)。

特性

  • 通过尘埃器进**体采样，同时采集气体和颗粒/雾状污染物。
  • 氨气测量灵敏度达到0.01µg/m³。
  • 酸性气体(HCl，SO2，NO2)测量灵敏度同样可达到0.02µg/m³。
  • 系统可根据要求监视硼酸，F-和有机酸(CH3COO-，HCOO-)。
  • 全自动系统及无人测量。
  • 采用高可靠的分析方法，即离子色谱法。
  • 可选化学过滤器生命周期预测软件和多光束切换型(*多16点)。

规格

测量
氨气: NH3
阳离子: Na+，NH3，K+，Ca2+，Mg2+
阴离子: Cl-，Br-，NO2-，NO3-，SO32-，SO42-，PO43-
氟化物/有机酸: F-，HCOO-，CH3COO-，Cl-
硼: B
气体采样方法 尘埃器测定法
分析方法 离子色谱法
测量量程
NH3，阳离子，阴离子: 0～50µg/m³
氟化物/有机酸: F-，Cl-: 0～5μg/m³，HCOO-，CH3COO-: 0～30μg/m³
B: 0～100ng/m³
*小检测限制
NH3，阳离子: 0.01μg/m³，酸性气体: 0.02μg/m³，
PO4M3-: 0.05μg/m³，F-，Cl-: 0.01μg/m³，HCOO-: 0.05μg/m³，
CH3COO-: 0.01μg /m³，B: 10ng/m³
测量周期 *短60分钟或90分钟
测量点 一点或*多16点(选配件)
标定 使用标准溶液标定，自动标定
外部接点输入 测量流路切换信号，外部报警信号，外部报警复位信号
外部接点输出 异常浓度信号(用于每种流体，继电器接点)，
系统报警信号(继电器接点)，测流信号(二进制，继电器接点)，重测信号(继电器接点)，液体泄漏信号(继电器接点)，报警蜂鸣信号，报警发光信号
电源 100～120V AC，50/60Hz
重量 根据规格不同，约为150～180kg
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