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氧气分析仪
阿美特克公司可提供两个系列的氧气分析仪。 CG-系列的氧分析仪是设计来进行实验室和工业方面非燃烧气体的应用。主要是对高纯气体中氧气分析,以及对预混合气体中氧气和燃料的比例测量。Thermox 系列的氧分析仪是为监控燃烧过程而设计的。
- CG-系列氧分析仪, 适用于非燃烧应用
CG-系列的氧分析仪,基于氧化锆技术,用于测量非燃烧性气体中氧气的浓度(0.1 ppmv到100%), 例如 N2、Ar、He、Kr、 Xe 、Ne等。其应用范围包括:低温气体生产、热处理、半导体热加工、填充/吹扫用气体的分析、焊接用气体、氮气纯度。
- 炉膛内气氛控制分析仪
这类氧分析仪适用于惰性填充气体中ppm浓度的O2分析。而扩展应用的氧分析仪,可适用于监测在玻璃、金属和陶瓷涂层、养护及表面处理炉膛中预混合燃烧器内的气氛。
![]() | 适用于惰性气体的分析仪 此类分析仪用于在涂层、养护和表面处理的工艺中作为填充气的惰性气层中ppm级氧气测量。 |
![]() | 适合于实验室和工业应用的 CG-1000型氧分析仪 CG1000型是为工业和实验室应用而设计的一款便携式的氧分析仪。 它具有宽的工作范围(适合于0.1 ppm to 100% 的O2,自动换量程),可以对氧的变化做出迅速反应,具有先进的电子装置,容易进行系统集成。 更多信息 ... |
![]() | CG-1100氧气分析仪 此CG1100型为一款智能型传感器,可以对工业气体如氮气中氧气测量,量程从0.1ppm到100%。此类分析仪是专为需要对较广浓度范围上的氧做出快速反应而设计。可以选用一个吸气器 (可选),使样品通过分析仪,因而不需要样品泵。 更多信息 ... |
![]() | 适用于半导体热处理的 CG1100-RTP型氧分析仪 CG1100-RTP型的氧分析仪是专门设计来用于半导体工业中的快速热处理(RTP)晶片制造系统,检测吹扫气中的氧气。 |
![]() | CG1100-GS 型氧气分析仪 此CG1100-GS型是一款经过特殊设计的智能型传感器,可适用于空分和其它需要对很广范围浓度上的氧做出快速反应的应用中。它使用的是一个氧化锆传感器,可以提供快速响应、无衰竭、不会零点读数失效,因而可以保护你的工艺过程。 更多信息 ... |
![]() | CG1000型-快速热处理(RTP)氧气分析仪 此类仪器可以检测ppm级的氧污染,可以在0.1ppm到100%的氧浓度范围内做出快速的响应。配备一个 RS-232端口或可选的RS-485端口。 通过简单的通信协议就可以和一个工具控制器进行有效的集成。 可以提供4-20毫安模拟输出和输入/输出报警。用户友好的软件。电子流量传感器及氧化锆传感器。 更多信息 ... |
炉膛内气氛控制分析仪
![]() | 适用于燃烧预混燃烧器站的分析仪 这些分析仪适用于玻璃容器和玻纤制造厂,以便进行玻璃熔炉烟气的燃烧后分析以及前炉和纤维化燃烧器的预混区燃烧前分析。 更多信息 ... |
![]() | 适用于惰性气体的氧气分析仪 此类分析仪用于在涂层、养护和表面处理的工艺中作为填充气的惰性气层中ppm级的氧气测量。 |
![]() | 适用于火焰处理、还原/ 氧化气氛以及化学计量空气/燃油比的分析仪 扩大应用的ZrO2软件,使该燃烧分析仪适用于以合成气作为燃料的燃烧炉以及次化学计量比的炉气氛的空气/ 燃料比调整。 |